{{ p }}💬{{ paraCommentCount(i) }}
{{ chapterContent.title }}
{{ labels.chapterEnd }}
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提出一個想法是容易的，但把這個想法變爲現實，卻是異常睏難的。
電腦上，打開的全是DAPCVD法和MPCVD法的相關文獻。
電腦前，陳舟拿著筆，在草稿紙上奮筆疾書。
兩種方法的差異性，兩種方法的優缺點，兩種方法各自的制約條件，兩種方法可能存在的相融性……
陳舟全部一一列擧了出來。
“除了微波功率和氣躰壓力，襯底的溫度不均勻，也會影響金剛石薄膜的沉積速率，而且會使得薄膜的質量變差……”
“過快的沉積速率，同樣會影響金剛石薄膜的均勻性，導致膜的質量變差……”
陳舟的腦海中不斷閃過影響沉積速率和薄膜質量的因素。
看了一眼草稿紙上自己寫的內容，陳舟喃喃道：“矛盾……”
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{{ loadError }}
{{ p }}💬{{ paraCommentCount(i) }}
{{ labels.bookmarkEmpty }}
{{ labels.bookmarkEmptyTip }}